第一四五章 以清洗裝置為突破口(第4/4 頁)
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入手吧？RcA的清洗工藝，可是現在半導體產業在廣泛應用的成熟工藝。你們收購了RcA，這個價值太大了。”
RcA公司雖然後來沒落了，但RcA的傳說，在半導體領域從來沒有消失過。RcA的清洗工藝，是1970年公開發表的，直到陳兵重生之前，還在被廣發的應用。
半導體的生產工藝非常的複雜，一般有500-600個工藝步驟，而其中與清潔有關的步驟，佔比約達到了30%。
清洗裝置雖然沒有光刻機等關鍵裝置那麼名聲巨大，卻是半導體裝置中，非常重要的分支，如果能夠以此為切入點，成功進入全球的半導體裝置產業鏈，可就是真的能達成重點突破的目的。
陳兵再次挑了挑大拇指，“王老不愧是老行尊，一下就看到了核心。這個清洗裝置肯定是我們要發展的一個重點，其他的技術領域，我們現在還在進行評估。”
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